Nítríd sileacain i gcealla gréine

Is bunchloch é teicneolaíocht na gcillíní gréine den earnáil fuinnimh in -athnuaite, agus ba fhócas taighde lárnach i gcónaí é éifeachtúlacht agus iontaofacht na gceall gréine a fheabhsú. I measc a lán ábhar, nítríd sileacain Is é sin le rá Ceirmeach nítríde sileacain ) Tá ról ríthábhachtach aige i ndéantúsaíocht cille gréine mar gheall ar a airíonna fisiceacha agus ceimiceacha uathúla.

Nítríd sileacain: sciath ilfheidhmeach

Is iondúil go gcuirtear nítríd sileacain (SINX) i bhfeidhm mar scannán tanaí ar dhromchla na gceall gréine, áit a ndéanann sé ilfheidhmeanna. Is é an príomhról atá aige mar Sciath frith-fhrithchaite Is é sin le ráARC). When sunlight hits the surface of a silicon wafer, a large portion of it is reflected due to the difference in refractive index, leading to fewer photons entering the cell. A silicon nitride film has a refractive index that is in between that of air and silicon. By precisely controlling its thickness, the film can use the interference of light to significantly reduce reflection, allowing more photons to be absorbed by the cell and thus increasing the solar cell's efficiency.

Ina theannta sin, feidhmíonn an scannán nítríde sileacain mar a Ciseal éighníomhach . Ar dhromchla agus ar imill an sliseog sileacain, tá go leor bannaí agus lochtanna dangling ann. Feidhmíonn na lochtanna seo mar ionaid ath -chomhcheangailte d'iompróirí (leictreoin agus poill), rud a fhágann gur féidir le hiompróirí a d'fhéadfaí a bhailiú chun ath -chomhdhlúthú a dhéanamh sula sroicheann siad na leictreoidí. Laghdaíonn sé seo voltas ciorcaid oscailte agus fachtóir líonta na cille. Clúdaíonn an scannán sileacain nítríde go héifeachtach na lochtanna dromchla seo agus cuireann sé "éighníomhach" ar ais, rud a laghdaíonn ath -chomhcheangal iompróra agus ag feabhsú feidhmíocht na cille. Tá an éifeacht éighníomhach seo ríthábhachtach chun cobhsaíocht agus iontaofacht fhadtéarmach na gceall a fheabhsú.

Teicneolaíocht sil -leagain do nítríd sileacain

I dtáirgeadh cille gréine, ullmhaítear an scannán nítríde sileacain de ghnáth ag úsáid Sil-leagan gaile ceimiceach feabhsaithe plasma Is é sin le ráPECVD). This technique uses plasma to decompose silicon and nitrogen-containing gases (such as silane, SiH4, and ammonia, NH3) at relatively low temperatures (usually below 450°C), which then deposit on the silicon wafer's surface to form a dense silicon nitride film. PECVD has become the mainstream choice in the photovoltaic industry due to its high deposition rate, excellent film quality, and relatively low-temperature requirements.

Ceirmeach nítríde sileacain : Níos mó ná scannán amháin

Cé go bhfuil an príomh -chur i bhfeidhm nítríd sileacain i gcealla gréine i bhfoirm scannán tanaí, a Ceirmeach nítríde sileacain Is díol suntais é an fhoirm freisin. Mar ardcheirmeach struchtúrach, tá cáil ar silicon nítríd ceirmeach as a chruas ard, as a chobhsaíocht theirmeach den scoth, as comhéifeacht leathnaithe teirmeach íseal, agus as insliú leictreach maith. Cé nach n-úsáidtear é go díreach i limistéar gníomhach na gceall gréine, i dtrealamh déantúsaíochta fótavoltach agus i gcomhpháirteanna gaolmhara-amhail daingneáin nó páirteanna a úsáidtear le haghaidh próiseas ardteochta-is féidir le ceirmeach nítríde a bhuntáistí uathúla teirmeacha agus friotaíochta a ghiaráil chun tacú le línte táirgthe cille gréine éifeachtacha agus cobhsaí.

Dearcadh amach anseo

De réir mar a leanann an teicneolaíocht fhótavoltach ar aghaidh, tá na héilimh ar éifeachtaí frithchaite agus éighníomhacha ag dul i méid freisin. D'fhéadfadh taighde a bheith i gceist le taighde sa todhchaí próisis silide nítríde sileacain níos éifeachtaí a fhorbairt agus struchtúir scannán nítríde sileacain níos casta a fhiosrú, amhail bratuithe frith-fhrithchaiteacha ilchisealacha nó scannáin nítríde sileacain dópáilte, chun feidhmíocht na gceall gréine a bharrfheabhsú tuilleadh. Ina theannta sin, is ábhar taighde tábhachtach é nítríd sileacain a chomhcheangal le hardábhair eile chun éifeachtúlacht agus costas na gceall a chothromú.

Go hachomair, is príomhábhar fíor -riachtanach é nítríd sileacain i gcealla gréine nua -aimseartha sileacain. Óna fheidhmeanna scannán tanaí micreascópacha i frith-fhrithchaitheamh agus i bpasálú go dtí feidhmchláir níos leithne féideartha Ceirmeach nítríde sileacain I ndéantúsaíocht trealaimh, soláthraíonn an Silicon Nitride Family bunús láidir d'fhorbairt éifeachtach an tionscail fhótavoltach. $ $